第73章 山巍[05] 发光。(二更)

“津市蓝河科技历时四年攻克13.5nm光源系统设备,项目通过验收,已申请国家专利,并列入国家重大科学工程项目。我相信你们都很感兴趣,现在我从euv的靶材、光源的优化和设计以及碎屑处理系统等装置进行理论阐明,实验为辅的演讲。”

盛明安无视多少双眼睛盯着他看,镇定自若的按照他的计划进行演讲。

而他演讲的内容既言之有物,又不会真正暴露光源系统设备的核心技术。

底下窃窃私语:“真的是13.5nm光源系统?!”

“专利申请是真的!”、“列入国家重大科学工程项目,很可能和微电子科技合作共同组装euv。”、“双工作台完成,如果蓝河科技关于13.5nmeuv的仿真建模……那么最迟明年,我国就有euv了!”

“卧槽!如果是真的,我们还稀罕什么asml?照我国的行动速度,不出两年,肯定完善不输给美国半导体协会的半导体产业链!”

“盛明安真的是我盛神?!我盛神不是科大学生?他不是才大二?我记得他研究量子力学去了!”

“狗p!你不知道盛神光学专业的吗?光学专业搞光刻机才是光宗耀祖!”

“啊这……别驴我,国内光学专业就是混日子的。”

莫伦科夫脸色难看,眉头紧皱,保罗向前倾身质疑:“是骗局吗?”

莫伦科夫:“先听听看。”

不止他们,asml的高管神色肃穆,在场没人比他更具危机感,因为全球没有哪家光刻机可媲美asml的euv。

他们一家独大,实行科技霸权,如果盛明安的13.5nm光源系统设备真的攻克了,那就意味着他们将失去这独特的霸权地位,不得不与人平分市场,更甚他们还落后了华国的光刻机技术!

其他人诸如日本的天野浩,台积电的副总,华芯国际、华兴科技、华电科等知名老总,以及邱博士和庄博士都全神贯注听盛明安的演讲。

无论是asml还是华国的蓝河科技拥有高阶极紫外光刻机对除了美国、荷兰以外的国家而言其实都一样,一家独大的局面被打破自然再好不过,但这也意味着他们将来有可能会失去华国这个大市场。

华国每年芯片进口量超出全球芯片市场的一半,这占比巨大的进口量意味华国是一个巨大的芯片市场,而生产顶尖芯片的美国、日本和韩国都可以瓜分这个市场。

一旦这个市场自给自足,都将是他们的损失。

可这不意味着他们不能继续与华国合作,不意味他们不能投资蓝河科技,利益从来不会被封锁,封锁技术只是为了独占更大的利益。

封锁技术不能获取利益时,他们就会选择开放共享。

盛明安:“光学系统光源收集采用mo/si多层膜制备反射镜,对波长13.5nm的euv光的反射率可以达到70%。根据mo原子和si原子交替排列,使极紫外光发生干涉……”

他平缓而冷静的叙说,底下的人渐渐平静,尽力跟上他的思路,录音的录音、做笔记的做笔记,大部分人已经逐渐跟不上他的思路,正因此心中信任的天平不自觉倾向于他。

一些认为13.5nm光源系统被攻破是谎言的学者本意想揭穿骗局,现在却已经信服,剩下大半特意交了五千入场费那就是来见证奇迹的!

结果没有辜负他们的期盼,盛明安真的带来了奇迹!

上一刻他们为高通和asml联手打造的顶级处理器而绝望、羡慕、嫉妒……心中滋味杂陈,此刻就尝到了奇迹带来的无比美妙的兴奋激动感。

“如何提高euv靶材组分、形态,如何优化激光源,以及通过采取双脉冲方案提高光源的ce值……”

关于这方面的技术其实已经编写成论文投稿,此刻重说一遍信手拈来。

盛明安自顾自的说下去,没有人打断他,很快会场中只剩下他一个人的声音,清脆冷淡,引人入胜。

黑色的机器内部器件运作发出微弱的嗡嗡声响,姿态沉默寂静而忠实的记录着台上唯一在发光的青年。

黑发白肤,白色t恤和轻薄款的红色棒球外套,面孔漂亮得充满攻击性,气质却又清冷,目光冷静睿智,颠覆了人们对于科研人员简朴素净的形象。

他漂亮至极,穿着搭配充满时尚感,是一个俊俏雅丽的青年人。